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反滲透純水設(shè)備系統(tǒng)工藝要求及說明:

根據(jù)國家標準水質(zhì)情況、RO進水條件及海德能公司反滲透裝置設(shè)計導(dǎo)則，提出以下簡易流程。本工藝由預(yù)處理部分、RO反滲透主機脫鹽系統(tǒng)及RO膜清洗系統(tǒng)組成。
原水→原水箱→原水泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→保安過濾器 →高壓泵→反滲透裝置→純水箱→使用點

1、預(yù)處理部分工藝說明：

1.1前級增壓系統(tǒng)：

由于系統(tǒng)進水為自來水，外網(wǎng)管路供水由于壓力不夠（受其它用水點的影響），且原水壓力波動很大，(主要受管網(wǎng)用水量高峰期的影響，壓力波動變化量較大)因此在原水進口處設(shè)置一臺原水箱及一臺原水增壓泵，原水由原水泵增壓進入過濾器。水壓恒定且大于0.25MPa，保證系統(tǒng)進水能安全工作。

1.2前級預(yù)處理系統(tǒng)：

由于自來水的濁度不穩(wěn)定，并且自來水的濁度隨季節(jié)性變化及人工加藥量的因素影響，造成其濁度變化系數(shù)較大，因此在前級預(yù)處理部分設(shè)置一臺石英砂過濾器，以便過濾器過濾去除。

由于原水為自來水,一般自來水管網(wǎng)末端余氯含量約為0.5mg/L,活性炭過濾器在本工藝中主要去除原水中的余氯及部分重金屬離子、有機物，經(jīng)活性炭過濾器吸附后，水中的余氯去除率為99.9%,出水符合RO進水條件。預(yù)處理系統(tǒng)設(shè)計產(chǎn)水量≥8m3/h。

2、預(yù)處理設(shè)備工作參數(shù)及選用特點：

2.11、預(yù)處理系統(tǒng)部分工藝說明：

2.1原水增壓泵

原水泵用于水壓的提升，以滿足石英砂過濾器和活性碳過濾器的進水供水量及工作壓力。

2.2石英砂，活性炭過濾器：

石英砂，活性炭過濾器設(shè)計流速為8～15m/h，過濾器內(nèi)設(shè)各種粒徑的石英砂填料層及101滲銀滅菌型活性炭，由于活性炭內(nèi)滲銀，微生物的繁殖受到抑制，因活性炭在工藝中主要起吸附水中的有機物、余氯；因其比重較輕，反沖洗強度為0-8L/m2·S，濾料的反洗膨脹率為40～50%，反洗時宜選用低流速反洗，以防止活性炭被反洗水沖走。

在石英砂，活性炭過濾器進出水管道上設(shè)有壓力表，可顯示過濾器的運行壓力及進出水的壓差，過濾器的反洗按照進出水壓差來確定(當進出水壓差達到0.1MPa時進行反洗)，由反洗水泵來實行過濾器的反洗，活性炭過濾器濾料（活性炭）更換周期以出水的余氯含量≤0.1PPM及有機物含量CODcr<1.5mg/L，兩項指標確定，出水水質(zhì)應(yīng)定期監(jiān)測。

            

2.3保安過濾器：

保安過濾器選用濾芯精度為5um，在工藝中主要用于截留前置管道、設(shè)備中可能泄漏的機械雜質(zhì)或破裂的樹脂顆粒，確保RO進水的清潔度，以防前級過濾器泄漏的機械雜質(zhì)進入反滲透膜元件，這種顆粒經(jīng)高壓泵加速后可能擊穿反滲透膜元件，造成大量鹽份的泄漏，同時可能劃傷高壓泵的葉輪，保安過濾器內(nèi)的濾元采用聚丙烯噴熔工藝制作，過濾微孔具有：孔形呈錐形結(jié)構(gòu);過濾效率高，可進入深層過濾;納污容量大，使用壽命長;采用卡式結(jié)構(gòu)，便于快速更換。

保安過濾器的濾芯應(yīng)定期更換，一般可根據(jù)進出水壓差來決定。

保安過濾器進出水管道上均設(shè)有壓力表，可顯示保安過濾器的進出水壓力及進出水壓差。

                                                  

3、反滲透脫鹽系統(tǒng)

一級反滲透裝置在工藝中主要去除水中大部分的陰、陽離子及有機物、熱源和細菌等。反滲透（RO）一級脫鹽系統(tǒng)由RO膜組件、高壓泵、RO清洗裝置等組成。

                         

3.1反滲透裝置

反滲透是一種借助選擇透過（半透過）性膜的功能，以壓力為推動力的膜分離技術(shù)膜元件，由反滲透膜導(dǎo)流布和中心管等制作而成，將多根RO元件裝入不銹鋼耐壓殼體內(nèi)，組成RO組件。本工藝脫鹽系統(tǒng)的關(guān)鍵，成熟的工藝設(shè)計和合理的操作，控制及管理，直接決定著系統(tǒng)的正常、穩(wěn)定出水。并關(guān)系到反滲透膜的使用壽命，經(jīng)反滲透處理后的出水，去除了絕大部分無機鹽和幾乎所有的有機物，微生物（細菌、熱源等）從而確保了本系統(tǒng)產(chǎn)品水的高質(zhì)量、高品質(zhì)。

完成預(yù)處理后的出水其出水由淤積密度指數(shù)SDI測試儀監(jiān)測，當SDI值<4時，即可進入RO系統(tǒng)，由高壓泵增壓后進入反滲透系統(tǒng)（RO），反滲透出水（脫鹽純水）去中間水箱，另一部分由管道匯集后成濃水（主要含鹽份、機械雜質(zhì)、膠體、有機物等）隨小部分未透過水排入下水道。反滲透主體設(shè)備選用美國HYDRANAUTICS公司生產(chǎn)的高脫鹽率低壓CPA3-8040超低壓件。該膜元件屬節(jié)能型低壓膜，是世界上最先進的卷式RO膜元件，具有結(jié)構(gòu)緊湊，產(chǎn)水量特別大（單支RO膜產(chǎn)水量可達1.2t/h），脫鹽率高（單支膜試驗數(shù)據(jù)>99.7%），操作壓力低，耐細菌侵蝕性好，適用PH范圍廣（PH為3~10）的優(yōu)點。

反滲透配套控制系統(tǒng)功能：

設(shè)備配制工作儀表及監(jiān)視儀表：

顯示系統(tǒng)的運行工況（RO出水電導(dǎo)率、高壓泵的開關(guān)、進出水流量、壓力等參數(shù)）；

反滲透高壓泵進口設(shè)低壓保護器，當高壓泵進水壓力<0.1Mpa時，高壓泵自動停止工作。

反滲透高壓泵出口設(shè)高壓傳感器，當工作壓力大于某一設(shè)定值，高壓泵停止運行，以防損壞后級管道及膜元件。

進水、濃水、淡水閥：主要調(diào)節(jié)RO進水量、產(chǎn)水量、進水壓力、濃水壓力及回收率。

電導(dǎo)儀：電導(dǎo)儀用于監(jiān)測RO進出水電導(dǎo)率的變化情況，溫度表顯示RO膜在不同溫度下產(chǎn)水量的變化。

高壓泵：增壓滿足RO膜元件進水壓力要求。

液位自控：主要用于防止停水情況下，高壓泵繼續(xù)運行而使高壓泵損壞，另一作用是如中間水箱高位時，可使RO停止運行，防止純水箱溢流。

3.2反滲透清洗系統(tǒng)

清洗裝置由清洗水箱等組裝而成，用以滿足反滲透裝置的循環(huán)清洗及藥劑的過濾，滿足反滲透裝置一次清洗用的藥劑量。

                       

4、電氣控制柜的功能及系統(tǒng)儀表

本系統(tǒng)采用RO-PLC集成電路控制方式，設(shè)備運行（泵的起停）、監(jiān)視（出水電導(dǎo)、流量、壓力等）都具有清晰的指示，顯示運行參數(shù)及水質(zhì)變化情況，并且在非正常情況下實現(xiàn)自動報警。

一.           系統(tǒng)液位與各工作水泵可實行連鎖保護，有利于設(shè)備安全運行。

4.1前級過濾器(石英砂過濾器及活性炭過濾器)的運行：

原水泵出口設(shè)有流量計，前級過濾器的進水流量按手動設(shè)定值運行。

4.2反滲透裝置的自動運行及保護：

1)一級反滲透高壓泵進水設(shè)低壓保護器，開關(guān)量的壓力信號輸入控制系統(tǒng)，當壓力小于0.05-0.1MPa時，高壓泵自動停止運行，系統(tǒng)自動報警。

2)高壓泵出口設(shè)高壓保護器,開關(guān)量的壓力信號輸入控制系統(tǒng)，當壓力大于某一設(shè)定值時，高壓泵自動停止，系統(tǒng)自動報警。

3)高、低壓保護器設(shè)定的壓力可根據(jù)實際需要手動設(shè)定。

4)反滲透濃水側(cè)設(shè)一自動沖洗電磁閥，設(shè)定時間進行沖洗，用于系統(tǒng)的定期快沖洗。

c、其它功能：

1）進水、濃水、淡水閥：主要調(diào)節(jié)RO進水量、產(chǎn)水量、進水壓力、濃水壓力及回收率。

2）電導(dǎo)儀：電導(dǎo)儀用于監(jiān)測RO進、出水電導(dǎo)率及顯示RO膜在不同溫度下產(chǎn)水量的變化。

3）高壓泵：增壓滿足RO膜元件進水壓力要求。

應(yīng)用領(lǐng)域和指標要求參考

Reference of applications areas and indexes required

 

用途Applications

用水指標Water Indicators

參考標準Reference standard

單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產(chǎn)

Monocrystalline silicon, polycrystalline silicon, solar cells, alumina crucible, photovoltaic glass, and other production

電阻率15 ~18.25 Mω.CM

Resitivity 15 ~18.25 Mω.CM

我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標，GB11446-1-1997

The water quality of China's electronic-grade technical indicators GB11446-1-1997

美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標

The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor

單晶硅半導(dǎo)體集成電路塊，顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業(yè)

Monocrystalline silicon semiconductor chips, tubes, glass, liquid crystal displays and other manufacturing industries

電阻率15 ~18.25 Mω.CM

Resitivity 15 ~18.25 Mω.CM

美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標

The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor

我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標，GB11446-1-1997

Chinese electronic-grade  water quality technical specifications  GB11446-1-1997

 

光學材料清洗用水、電子陶瓷行業(yè)用純水、尖端磁性材料用純水

Pure water for optical materials, electronic ceramics and cutting-edge magnetic materials

電阻率 10 ~17 Mω.CM

Resitivity 10 ~17 Mω.CM

我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標，GB11446-1-1997

Chinese electronic-grade  water quality technical specifications  GB11446-1-1997

美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標

The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor

蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產(chǎn)

Batteries, lithium batteries, zinc-manganese battery production

電阻率5 ~10 Mω.CM

Resitivity 5 ~10 Mω.CM

我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標，GB11446-1-1997

Chinese electronic-grade  water quality technical specifications  GB11446-1-1997

有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級新材料生產(chǎn)用水、航空新材料生產(chǎn)用水、ITO導(dǎo)電玻璃制造用水、電子級無塵布生產(chǎn)用水

Pure water for non-ferrous metals, precious metals smelting, nano-scale production of new materials, aviation and production of new materials, ITO conductive glass, production of electronic-grade for dust-free cloth

電阻率15 ~18.25 Mω.CM

Resitivity 15 ~18.25 Mω.CM

我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標，GB11446-1-1997

Chinese electronic-grade  water quality technical specifications  GB11446-1-1997

 

美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標

The industrial pure water indicators of U.S. semiconductor

 主要工藝流程和出水指標：

Main technical process and standard of output water

※ 預(yù)處理+反滲透+離子交換器（電阻率≥5-15Mω.CM）

   Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+ion exchange (electric conductivity≥5-15Mω.CM）

※ 預(yù)處理+二級反滲透+EDI（電阻率≥15Mω.CM）

   Pre-treatment+ stage reverse osmosis system+EDI (electric conductivity≥15Mω.CM）

※ 預(yù)處理+二級反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25Mω.CM）

   Pre-treatment+ double stage reverse osmosis system+air film+EDI +polishing mixed bed (electric conductivity≥18.25Mω.CM）

詳細工藝需根據(jù)原水設(shè)計情況進行設(shè)計

      Details of the design process should be carried out according to the feed water quality.

純水設(shè)備的主要特點

Main technics of pure water treatment equipment

★結(jié)合電子工業(yè)用水連續(xù)生產(chǎn)的特性，采用了全膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作；

   The electronics industry with the characteristics of continuous production of water, using the entire membrane treatment process (UF + RO + EDI) to complete the preparation of highly pure water work;

★對于電子行業(yè)用水的特性，增強了對水中二氧化硅、重金屬和有機碳的脫除；

For the water features of electronics industry , enhanced to removal silica, heavy metals and organic carbon in water.

★采用了氮封水箱解決了電子工業(yè)用水要求較高，水的儲存及容易被污染問題；

Using nitrogen sealed water tanks to solve the problems of electronics industry require a higher water use, water storage easy to pollution ;

★采用原裝進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉，產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定；

Adopted import reverse osmosis membranes, desalination rate is high, long service life, the operation cost is low, the output water quality is high and stable.
★在線水質(zhì)監(jiān)測控制，實時監(jiān)測水質(zhì)變化，保障水質(zhì)安全；

On-line water quality monitoring and control, real-time monitoring of water quality to ensure safety of water quality.
★全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡單、安全；

Automatic control procedure, also equipment with touch screen operation, easy to use, the operation is simple, safe.
★依據(jù)當?shù)厮|(zhì)的人性化設(shè)計，設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計，占地面積小，全方位滿足需求。

Correspond with the local water personalized design, considerate stackable design, small floor area, which can meet considerate needs.

★運行費用及維護成本低，全自動運行，實現(xiàn)無人化管理操作。

Operating costs and maintenance cost low, automatic operation, can realize unmanned management operations.